Новости
-
23.12.2011
ЗАО «Эпиэл» получило финансирование на расширение производства и освоение диаметра 200 мм
Кредитная линия для финансирования проекта комплексной модернизации и освоения производства эпитаксиальных структур диаметром 200 мм в ЗАО «Эпиэл» была одобрена в декабре. Создаваемое в рамках проекта производство призвано полностью обеспечить потребности передовых отечественных производителей электронных компонентов эпитаксиальными структурами мирового уровня диаметром 200 мм. -
03.06.2011
ЗАО «Эпиэл» приняло участие в выставке SEMICON RUSSIA 2011
С 31 мая по 2 июня 2011 года в Москве проходила международная выставка SEMICON RUSSIA – крупнейшее мероприятие года в сфере микроэлектроники и фотовольтаики. -
01.02.2011
По итогам 2010 года рост продаж ЗАО «Эпиэл» составил 47%
-
17.12.2010
Успешно выполнен и сдан государственному заказчику второй этап ОКР по направлению SiGe эпитаксии
-
15.12.2010
Успешно выполнен и сдан государственному заказчику второй этап ОКР по направлению эпитаксии «Кремний на сапфире»
-
03.11.2010
С компанией Raen Tech Inc. подписано соглашение о дистрибуции продукции ЗАО «Эпиэл» на рынке США
-
01.11.2010
В течение 2011 года ЗАО «Эпиэл» планирует провести реконструкцию и модернизацию эпитаксиального участка, и освоить производство эпитаксиальных структур диаметром 200 мм
-
13.10.2010
С компанией XT Xing Technologies подписано соглашение о дистрибуции продукции ЗАО «Эпиэл» на рынке стран Азиатско-тихоокеанского региона
-
28.09.2010
В ЗАО «Эпиэл» разработан и освоен технологический процесс изготовления структур КНС диаметром 150 мм
