Продукция
ЗАО «Эпиэл» специализируется на производстве различных типов кремниевых эпитаксиальных структур практически для любых дискретных полупроводниковых приборов и интегральных схем средней степени интеграции.
Следуя потребностям внутреннего рынка сегодня ЗАО «Эпиэл» производит эпитаксиальные структуры на пластинах диаметром 76, 100 и 150 мм. В 2011 году в планах компании освоение производства эпитаксиальных структур диаметром 200 мм.
Мы производим типовые эпитаксиальные структуры для различных применений (IGBT, DMOS, Shottky и др.), а также оказываем услуги по наращиваю эпитаксиальных слоев на пластинах заказчика, в том числе на пластинах со скрытыми слоями. |
Мы также производим эпитаксиальные структуры Кремний на Сапфире (КНС) для различных применений, в том числе для Тензо-модулей и спецстойких СБИС спецназначения. |
Наши научно-исследовательские возможности позволяют нам разрабатывать кастомизированные процессы и изготавливать нестандартные продукты в соответствии с запросами наших заказчиков. |
